半导体制造业中的黄光区，不仅工艺复杂、设备维护频繁而且设备也最为昂贵，因此，黄光区是每个半导体制造企业最为关注的区域之一。
简单来讲
黄光区是指TFT工厂或者半导体工厂中的光刻区
包含光刻胶涂布、曝光、显影及刻蚀工序
（因为光刻胶对其他光的波长比较敏感，黄光照明避免了光辐照后可能产生的光刻胶变性，就像传统的照相技术，胶片要在暗室才能洗出来。）
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本文主要结合天津市某超导净化厂房 ISO5 级黄光区应用实例对洁净区静电问题及处理方法（应用材料）进行探讨:
黄光区是此洁净厂房核心部件加工区域，空调面积 42㎡ ，建筑层高 3.7m，区内负荷 46.95kW，黄光区技术设计参数如表 1 所示 。
其他洁净区域特殊要求与设计参数，如表 2 所示。针对黄光区域施工工艺特殊性，本工程采用了不同的解决方法，供相关技术人员参考。
（黄光）洁净区静电问题及处理方法
工艺要求对室内控制的相对湿度偏低，这就造成了区域内空气干燥，进而会产生静电问题，静电的出现不但会影响产品质量，而且对区域内的工作人员造成身体伤害，因此工作人员必须穿着防静电服，在本工程中对洁净区域采取了若干防静电处理技术，如采用双面防静电的黄光高分子树脂板（或玻璃），铝蜂巢隔间做双面防静电处理，对于铝塑板、 PU 库板隔间墙做单面防静电处理等，如图所示。
该工程通过采用 Epoxy 技术，对地面，墙、柱、天花板做不同厚度 Epoxy 涂刷，成功地解决了地面防尘问题，又解决了区域防静电问题。
最后考虑人员与物料传输过程也会对黄光区造成污染，因此还要设置气阻室、空气浴尘室以及传递箱，如上图所示，所有这些措施只有一个目的就是维持黄光洁净区域的洁净度，确保生产工艺安全可靠。
